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英特爾和大日本印刷將把掩膜技術(shù)開發(fā)合作擴(kuò)展到32nm工藝
 
http://m.sbdailynews.com  2006-01-23 日經(jīng)BP社報(bào)道

    關(guān)于半導(dǎo)體制造工藝使用的掩膜技術(shù)開發(fā),英特爾和大日本印刷日前宣布,將把現(xiàn)有的合作關(guān)系擴(kuò)展到32nm工藝(hp45)。具體來說就是,將在EUV(Extreme Ultraviolet,遠(yuǎn)紫外)曝光掩膜技術(shù)的開發(fā)中進(jìn)行合作。

  2000年以后,英特爾和大日本印刷在180nm到45nm(hp65)半導(dǎo)體制造工藝的掩膜技術(shù)開發(fā)中進(jìn)行了合作。根據(jù)此次的決定,在保持現(xiàn)有合作關(guān)系的同時(shí),將進(jìn)一步強(qiáng)化未來的合作。

  作為現(xiàn)有ArF曝光的下一代技術(shù),在國際半導(dǎo)體技術(shù)開發(fā)藍(lán)圖(ITRS)中十分看好EUV曝光技術(shù)。為了實(shí)現(xiàn)EUV曝光,英特爾和大日本印刷將通力合作,以便能在適當(dāng)?shù)臅r(shí)期提供掩膜技術(shù)。

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